Local Slurry Supply System
應用項目：中小型供應系統，將研磨液依製程需求精準混製並安全地輸送至CMP製程機台，以滿足各CMP製程之需求，適合新製程研發或量產前期研磨液供應使用。
系統特色：
- 雙Pail搭配雙Mixing/Supply Tank達成供應不中斷之需求。
- H2O2以高精度之獨立磅秤計量，提高混酸精度。
- 具雙混雙供、單混單供之雙重運作模式，增加系統運行效能。
- Load Cell控制混合比例與不同調配需求，並有液位計雙重保護之機制。
- 自動桶槽清洗與全系統自動清洗雙功能，降低維護之人力損耗。
- Filter Auto Flush功能。
- AIC即時檢驗Slurry品質。
安全規範：符合SEMI-S2設計規範
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