Local Slurry Supply System
应用项目：中小型供应系统，将研磨液依制程需求精准混制并安全地输送至CMP制程机台，以满足各CMP制程之需求，适合新制程研发或量产前期研磨液供应使用。
系统特色：
- 双Pail搭配双Mixing/Supply Tank达成供应不中断之需求。
- H2O2以高精度之独立磅秤计量，提高混酸精度。
- 具双混双供、单混单供之双重运作模式，增加系统运行效能。
- Load Cell控制混合比例与不同调配需求，并有液位计双重保护之机制。
- 自动桶槽清洗与全系统自动清洗双功能，降低维护之人力损耗。
- Filter Auto Flush功能。
- AIC即时检验Slurry品质。
安全规范：符合SEMI-S2设计规范
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