气液相混和技术

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随着半导体产业对于机能水的应用日渐受到重视,提升气体溶解效率不仅受到产业先进的关注,更是信纮努力的方向。气体溶解于水溶液的速率, 主要受到温度, 压力, 气体与水溶液接触面积, 以及包括扩散速率等等与溶解有关的动力学因素控制。除了对传统习用的多孔性气体分散器(Bubbling)方式、文氏管(Venture)、多孔膜渗透溶气技术进行研究之外,信纮更自行开发利用Pump轮叶或隔膜将气体高效分散并溶入水中,大幅提高气体溶解效率。

目前信纮在CO 2 气液相溶解的技术以及提高气体在水溶液中的溶解效率,均已开发多项专利技术。并对CO 2 /碳酸水系统的PH值及电导度行为建立模拟计算基础,借此开发汽水机系统应用于湿式洁净清洗制程。此项气液相溶解的技术同时也应用于O 3 /DIW溶解效率评估。

当前半导体厂在制程使用各种不同用途的机能水: 包括

  1. 臭氧水用于晶圆表面污染物的清洗;
  2. 碳酸水溶液(CO2水溶液)用于晶圆表面清洗
  3. 氢水提高DIW的还原性减少晶圆片氧化
  4. 氨水用于晶圆表面清洗
技术应用:
  • CO 2 -DI Supply System
  • O 3 -DI Supply System
  • H 2 -DI Supply System
  • NH 3 -DI Supply System
  • O 3 相关的废水高级氧化处理技术及应用