- 高級氧化法 - 信紘科技股份有限公司
高級氧化法

有機溶劑及廢水處理解決方案-COD降解,H22去除
半導體產業製程中所產生的廢液(包含廢水或廢有機溶液)常含有高濃度的H2O2,依據其化性以及雙氧水的濃度不同,有些廢液可直接利用如UV、O3、光觸媒或超音波等方法進行氧化還原反應,可加速反應速率及效率。

信紘已開發了利用紫外光(UV光)照射, 雙氧水以及臭氧等複合式組合的高級氧化法之核心技術,提供有機溶劑及廢水處理解決方案
 

高級氧化法技術能力
信紘高級氧化法技術開發方向為:
    1. 雙氧水氧化
    2. 紫外-可見光照射
    3. 臭氧氧化


信紘擁有氣相層析質譜儀(Gas Chromatography Mass Spectrometry; GC-Mass)及液相層析質譜儀(Liquid Chromatography Mass Spectrometry; LC-Mass)等重要儀器設備,可利用此設備探討高級氧化程序所產生的中間的化學物質並進行定性及定量分析,此外配合化學自動滴定儀等設備探討雙氧水分解的速率,深入且有效為客戶解決特有的製程問題及需求
 

實際應用與實績
以高級氧化法所開發之設備已運用於台灣先進半導體客戶製程中,已實際應用之設備:
-廢有機溶劑H2O2去除設備
-高濃度化學廢液降解COD設備