- 高级氧化法 - 信紘科技股份有限公司
高级氧化法

 
有机溶剂及废水处理解决方案COD降解,H22去除
半导体产业工艺中所产生的废液(包含废水或废有机溶液)常含有高浓度的H2O2,依据其理化性质以及双氧水的浓度不同,有些废液可直接利用如UV、O3、光催化剂或超音波等方法进行氧化还原反应,可加速反应速率及效率。

信纮已开发了利用紫外光(UV光)照射, 双氧水以及臭氧等复合式组合的高级氧化法之核心技术,提供有机溶剂及废水处理解决方案
 

高级氧化法技术能力
信纮高级氧化法技术开发方向为:
    1. 双氧水氧化
    2. 紫外-可见光照射
    3. 臭氧氧化

信纮拥有气相层析质谱仪(Gas Chromatography Mass Spectrometry; GC-Mass)及液相层析质谱仪(Liquid Chromatography Mass Spectrometry; LC-Mass)等重要仪器设备,可利用此设备探讨高级氧化程序所产生的中间的化学物质并进行定性及定量分析,此外配合化学自动滴定仪等设备探讨双氧水分解的速率,深入且有效为客户解决特有的工艺问题及需求
 

实际应用与实绩
以高级氧化法所开发之设备已运用于台湾先进半导体客户工艺中,已实际应用之设备:
-废有机溶剂H2O2去除设备
-高浓度化学废液降解COD设备